關于研磨石拋光的幾種方式:

1.電解拋光
(1)宏觀整平 溶解產物向電解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降， Ra ＞ 1 μ m 。
(2)微光平整 陽極極化，表面光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。研磨石

2.流體拋光
流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到拋光的目的。
常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體介質高速往復流過工件表面。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物（聚合物狀物質）并摻上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。研磨石

3.化學拋光
化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需復雜設備，可以拋光形狀復雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高?；瘜W拋光的核心問題是拋光液的配制?；瘜W拋光得到的表面粗糙度一般為數 10 μ m 。研磨石